在半导体制造中,层叠、曝光、贴合等工序都离不开精准对位,而承担这一关键使命的,是微米级的Mark点。它是层与层之间的“定位锚点”,也是芯片良率的“隐形守门员”。

在晶圆背面工艺、封装检测和叠层曝光等环节,Mark点常被硅层遮挡,可见光无法穿透,相机看到的往往是一片反射或模糊阴影。这带来一系列挑战:
自动对位算法难以识别特征,需人工介入
频繁调焦与重复测量增加检测时间,生产节拍受限,效率下降
高端检测设备的核心器件仍依赖进口,成本居高不下
半导体检测A客户反馈:
我们需要能真正看穿硅层的眼睛。
凌云光自主研发的眼镜蛇系列CB2000-GE640-100ST短波红外相机,基于国产次代芯片,采用300~1400nm宽光谱响应范围,能在1100nm以上波段穿透硅层,清晰呈现被掩盖的背面Mark点结构,为“看穿硅层”而生。
硅在短波红外区域具有高透过率。相机捕捉穿透后的红外图像,清晰呈现Mark点的对齐状态。当中心重叠或偏差在容差范围内,系统即可自动判断“对齐”,实现精准定位。

CB2000-GE640-100ST短波红外相机不仅能“看得见”,更在性能与成本上实现“双突破”:

针对不同生产线场景,凌云光提供灵活的检测方案:
CB2000-GE640-100ST短波红外相机已在多类光学检测与半导体设备测试项目中成功验证。凌云光凭借国产成像芯片与整机自研能力,为半导体检测注入“可见之光”,实现了从“可用”到“好用”的跨越。以更优信噪比、更低功耗、更快交付周期,为行业提供可靠、可量产的国产替代方案。
2022-07-22
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